182-1095-8705
最新公告：NOTICE
8月1日起，国家知识产权局停征和调整部分专利收费，详情参阅资讯中心公告

资讯中心

当前位置：专利申请 > 资讯中心 >

中企公布EUV光刻机发明专利，难怪ASML着急出货

专利代理 发布时间：2022-12-07 16:55:22 浏览: 次


在光刻机领域，ASML一家独大，依托自主研发的先进的EUV光刻机，ASML也在整个光刻机市场赚得盆满钵满；因为EUV光刻机是生产7nm工艺以下芯片的必备设备，所以很多芯片都争相购买EUV光刻机。在老美的限制下，中国就算有钱也买不到。
 
多年来，在美洲等国的帮助下，ASML还成功拿下了核心技术光刻机，获得了光源设备、真空室、光刻胶材料、光学镜头等核心部件的供应。ASML实际承担组装EUV光刻机的工作，很多零部件都是从国外进口的；要知道，光刻机中的每一个部件都可能涉及到核心技术 专利，所以其他厂商侵犯专利，很容易被起诉，所以我们不能完全复制EUV光刻机，我们要坚持自主研发自己的专利！
 
在EUV光刻机等核心技术领域，掌握技术 专利这个键非常重要。在这个关键时刻，中企川芯半导体公布了一款名为“曝光成像结构、反射式光掩模组和投影式光掩模光刻机”的光掩模光刻机专利 技术，这是除此之外，我们之前在光源、两件式工作台等核心技术领域的突破。
 
乐知网小编给大家分享一个专利申请:一种光刻机系统及光刻方法
 
摘要:
 
本发明涉及光刻机技术领域，具体涉及光刻机系统和光刻方法。
 
该光刻机系统包括能够发射至少两种能量束的光源模块；
 
能量束调节模块，用于调节能量束的波长和能量；
 
光学模块用于将能量光束共线聚焦形成贝塞尔光束；
 
四波混频发光模块用于提供四波混频蓝光，四波混频蓝光和贝塞尔光束可以共线聚焦形成短波能量光束；
 
运动模块包括样品台和智能机械手，样品台设置为位置可移动状态，智能机械手用于调整待刻蚀样品在样品台上的位置。通过该系统，可以无限缩小光刻光束的线宽，光束可以缩小到5nm、3nm、2nm甚至更低，从而提高光刻精度，降低功耗。
 
 
(乐知网- 领先的一站式知识产权服务平台，聚焦 专利申请,商标注册 业务)
 
更多 专利申请 问题，欢迎咨询
 


关键词： 专利 发明专利  

上一篇：光伏能源公司专利排行榜

下一篇：一文看懂 广州市计量检测研究院专利申请流程科技成果鉴定介绍

返回列表
地址：北京市西城区红莲南路57号  电话：182-1095-8705 邮箱：2101183472@qq.com 网站地图
技术支持：乐知网 关键词：知识产权代理 冀ICP备17023971号 Copyright www.lzpat.com 版权所有