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专利代理咨询电话 18210958705 QQ 2101183472 发布时间：2021-11-23 12:05:29

乐知网小编为专利申请的人介绍一下知识产权领域中，从专利申请看日本半导体企业在产业链中的地位。

《日经新闻》根据日本特许厅（专利厅）发布的专利申请调查，汇总了日本企业在光刻设备技术的动向，半导体制造设备在也全球也保持着较高存在感。

在半导体制造工艺中，光刻工序是非常重要的工序。

在圆形基板上制造大量电路的前工序；把基板上形成的电路一个个切割为片状后进行组装为后工序。

在半导体制造的前工序中，核心是光刻工序。

要根据以光刻设备烧制的电路图切削基板、进行布线，完成半导体芯片的制造。

数据显示，全球半导体光刻的前后处理技术领域的专利申请数最多，光刻胶剥离、光刻胶周边部分的清除技术相关专利数超过1.6万项。

日本国籍的专利申请者每年都几乎占到4成，数量最多。

在此期间，全球专利申请总数为4万2646项，其中日本国籍的申请者就申请了1万8531项，占到总数的43.5％，远超韩国和美国。

2012年后，在美国的专利申请超过了日本，之后在美申请数持续增加。

累计数据来看，在美国的专利申请数为1万678项，占整体的25.0％，其中来自日本的申请者占32.1%。

在中国大陆的专利申请数量为6010项，其中大陆的申请者仅有22.1%。

2018年后，在美国申请数最多，之后是中国大陆、韩国和台湾，而在日本的申请数逐渐减少。这反映出日本占全球半导体生产中的份额在下降。

从单个申请者来看，日本企业东京电子每年稳定申请数约为400项，累计达到了5196项，占到整体的12.1％。

东京电子在涂布显影设备领域，已掌握超过80％的全球份额。

东京电子是全球唯一一家实现了设备量产的企业，每年设备的供货量累计达到4000台。

专利累计申请数排在第2位的也是日本SCREEN控股，主要优势也在涂布显影设备，这两家日企掌控了全球90％以上的市场份额。

东京电子不仅是涂布显影设备领域有优势，还广泛涉足蚀刻设备等光刻工序之外的其他前工序设备领域。

在日本企业虽然在光刻前后处理技术领域具备突出优势，但中国台湾和美国等厂商也在加速追赶。

近年来，台积电的专利申请数激增。

台积电的申请量，已超过东京电子，成为了申请专利最多的企业。

台积电在生产线引进了最尖端光刻设备EUV，不断体现出这种生产技术的先进性。

在专利申请数量方面，美国企业占前10家企业的近半数，美国应用材料公司、IBM、英特尔等都名列其中。

在中国大陆企业中，中芯国际最近5年的申请数量为250项，也闯入前10。

韩国三星电子5年累计申请数量大幅增加至714项，跃居第4位。

排在第4位的日本东芝，2018年申请数仅为7项，大幅后退。

2021年全球半导体制造设备市场的规模将比2020年增长34％，达到953亿美元；到2022年市场规模有望超过1000亿美元。

日本在光刻设备领域落后于荷兰的阿斯麦（ASML），但凭借前后处理技术，日本半导体制造设备企业在全球仍保持着较高存在感，尤其在光刻胶等原材料领域，日本企业的优势明显，绝对具有“卡脖子”的能力。

不过，在材料以及设备方面的技术优势不能说明一切，日本企业在半导体生产领域的“短板”也十分明显。

目前，日企在半导体制造市场的份额仅为9%左右，而在1988年的巅峰时期，日本企业生产了当时全球50%的半导体；1992年，全球排名前10的半导体企业当中，日本尚有6家；现在却只剩下铠侠（Kioxia）一家。

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关键词：专利申请知识产权

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