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环形水冷屏创新设计:提升单晶加工效率的实用新型专利讲解

专利代理 发布时间:2024-06-28 12:36:42 浏览:



今天,乐知网律师 给大家分享:环形水冷屏创新设计:提升单晶加工效率的实用新型专利讲解 。


XD天合光近期获得了一项实用新型专利授权,该专利名为“环形水冷屏及单晶加工装置”。

该实用新型专利的核心在于环形水冷屏的设计,它结合了冷屏本体和连通管,通过独特的结构布局,实现了对单晶加工过程中晶棒的高效冷却。

冷屏本体由第一段和第二段组成,沿晶棒的拉伸方向排布,每一段均由内壁和外壁构成,形成了独立的空间。

特别地,两段之间通过连通管连接,使得冷却液体能够在两个空间内循环流动,形成温差。

环形水冷结构设计:传统的水冷屏通常采用平面结构,而该专利采用环形设计,不仅增加了冷却面积,而且使得冷却液体能够更均匀地分布在晶棒周围,提高了冷却效果。

连通管连接两空间:连通管的设计使得第一空间和第二空间内的冷却液体能够相互流通,形成温差。

这种温差有助于在单晶加工过程中形成更稳定的温度场,从而提高了硅单晶体的生产效率。

提高生产效率:通过优化水冷屏的结构设计,该专利实现了对单晶加工过程中晶棒的高效冷却,减少了加工过程中的热应力,提高了硅单晶体的质量和生产效率。

XD天合光在2023年研发投入了15.43亿元,同比增长26.42%,今年以来,公司新获专利授权220个,较去年同期增加了185.71%。


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