如何有效保护集成电路知识产权？ 如何防专利侵权检索

今天，乐知网律师 给大家分享： 如何有效保护集成电路知识产权？ 如何防专利侵权检索。

如何有效保护集成电路知识产权？

一、集成电路保护的必要性 芯片是半导体元件产品的统称，是集成电路（IC）的载体。

众所周知，国内芯片技术被国外封锁厉害，由于国内对芯片技术需求量大，结合国家政策导向，国内芯片技术也正处于蓬勃发展阶段。

而在发展芯片技术的时候，我们千万不能忘了对芯片技术的知识产权进行保护。

对芯片技术的保护，可以通过集成电路布图设计申请登记的方式进行保护。

统计数据显示，2022年国内集成电路申请公开共计47382件，由此可见，现今各企业也在积极的对集成电路布图设计进识产权保护并取得了不少成果。

二、集成电路保护的客体 根据《集成电路布图设计保护条例》（以下简称《条例》）第二条规定，集成电路布图设计是指集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路的三维配置，或者为制造集成电路而准备的上述三维配置。

《条例》第三条第一款规定，中国自然人、法人或者其他组织创作的布图设计，依照本《条例》享有布图设计专有权。

《条例》第四条规定，受保护的布图设计应当具有独创性，即该布图设计是创作者自己的智力劳动成果，并且在其创作时该布图设计在布图设计创作者和集成电路制造者中不是公认的常规设计。

受保护的由常规设计组成的布图设计，其组合作为整体应当符合前款规定的条件。

三、集成电路保护需要提供的资料 申请人办理集成电路布图设计登记时应提交的文件如下：

必须文件：集成电路布图设计专有权登记申请表一份，图样一份，图样的目录一份，以及布图设计的简要说明。

可能需要提交的文件：布图设计在申请日之前已投入商业利用的，申请登记时应当提交4件样品。

申请人委托代理机构的，还应提交集成电路布图设计专有权登记代理委托书。

此外，申请人还可以提交：包含该布图设计图样电子件的光盘。

申请文件的形式要求：

图样要求：包括该布图设计的总图和分层图，以适合A4纸的大小打印在A4纸上，每页纸打印一幅图，当图纸有多张时，应顺序编号，当A4纸不能满足时可以考虑采用A3纸进行打印提交。

图样的目录要求：应写明每页图纸的图层名称。

样品要求：所提交的4件集成电路样品应当置于专用器具中，器具表面应当贴上标签，写明申请人的姓名和集成电路布图设计名称。

简要说明要求：说明该集成电路布图设计的结构、技术、功能和其他需要说明的事项。

光盘要求：光盘内存有该布图设计图样的电子文件。

光盘表面应当写明申请人的姓名和集成电路名称。

四、提交集成电路登记时保护策略 集成电路布图设计以专门的《条例》进行保护，而且，《条例》保护的是集成电路布图设计中具有独创性的部分。

也就是说，当申请人提交的集成电路不具有独创性，厉害关系人可以向国知局提出异议要求撤回申请。

其中，集成电路保护期限为布图设计专有权的保护期为10年，自布图设计登记申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算，以较前日期为准。

但是，无论是否登记或者投入商业利用，布图设计自创作完成之日起15年后，不再受本《条例》保护。

由于集成电路布图设计本身涉及的技术内容非常高端，当涉及到集成电路布图设计侵权时，都是需要找本技术领域的资深专家和专门的技术鉴定中心进行鉴定的，所以造成集成电路布图设计维权的时间和成本都会大大的增加。

而且，在现有技术中，有的申请人可能会因为本身提供的申请材料表述不清楚，造成专家解析图层存在困难，从而使得申请人的集成电路专有权得不到有效地保护。

当对集成电路布图设计图层中的某个区域进行改进时，理论上是需要以清楚的方式全部呈现在提交的文件中的。

但是事实上，由于现阶段有些申请人对集成电路保护认识不够，或者由于代理人的水平有限，提交前没有与申请人进行有效的沟通而忽略掉申请人的独创部分的内容，由于集成电路布图设计是以登记制保护形式，所以国知局不会对其进行审查就给与公告并下发集成电路布图设计专有权证书，申请人形式上是拿到了证书，但是该证书是否真的有用那可不好说。

在实践中，如果对集成电路仅仅通过布图设计登记保护的方式，其实是不全面的。

尤其是经过这几十年的技术沉淀，集成电路从之前传统的电子芯片发展到现今的量子芯片，两种芯片结构的元器件的工作原理不同，使得局部之间的元器件的布局也会存在相当大的差异。

所以，无论是传统的电子芯片，还是量子芯片，除了通过申请集成电路布图设计的保护方式进行保护外，还可以根据各个元器件之间的布局关系对其申请相关专利进行保护。

例如，当该布局能够带来意料不到的技术效果，且解决了某一个技术难题，那么可以对其进行申请发明专利保护，如果该独创性的高度不是很高，可以申请实用新型专利进行保护，这样，可以对芯片做到全方位的保护，有效地保证了申请人的利益。

如何防专利侵权检索

专利防侵权检索（FTO）的目的是排查目标产品是否存在潜在的侵权风险，检索时要求不能遗漏任何一个风险专利。

因此，在构建检索式时，要考虑防侵权检索的查全率和查准率是否能满足检索目标的要求，检索式构建得当与否会影响最终的检索结果，进而影响防侵权检索结论的得出。

那么，在构建防侵权检索式时应当如何入手进行具体编写呢？ 一、包含两个检索要素的检索主题 对于只有两个检索要素的检索主题来说，构建检索式相对比较简单，通常采用直接逻辑“与”的方式进行编写。

其中，同一个检索要素既可以用关键词来表达，也可以用分类号来表达。

以下四个检索式基本涵盖了仅有两个检索要素的检索主题的可能性，具体如下：

① TAC =（要素A） and TAC =（要素B）； ② TAC =（要素A） and IPC =（要素B）； ③ IPC =（要素A） and TAC =（要素B）； ④ IPC =（要素A） and IPC =（要素B）。

[1] 除了可以在名称、摘要和权利要求中使用关键词进行检索外，还可以在说明书（DSC）中使用关键词进行检索来替代，这样将检索得更加全面。

但是，由于说明书中的内容比较宽泛，其中会包含很多与创新点不太相关的技术内容，因此检索结果也会有很大的不确定性，这无疑会扩大检索结果中所包含的检索噪音，造成后续筛选排查工作量的显著增加。

对此，检索人员可以首先选择在名称、摘要和权利要求中进行检索，再根据检索结果的准确性和全面性，来判断是否需要扩大到在说明书中进行检索；或者根据要素A和要素B在名称、摘要、权利要求或说明书中出现的可能性，来选择到底是在名称、摘要和权利要求中进行检索，还是在说明书中进行检索。

二、包含多个检索要素的检索主题 对于有多个检索要素的检索主题来说，构建检索式就会复杂一点。

如果仍然采用直接逻辑“与”的方式进行编写，虽然检索的结果很精准，但由于检索要素较多将会出现所命中的检索结果较少的情况，而导致漏检情况的发生。

因此就需要首先对多个检索要素进行判断和筛选，以其中部分检索要素的多种组合方式进行检索，来保障检索的全面性。

在编写检索式时，要考虑各个检索要素之间的相互关系，进行有侧重的取舍，比较典型的有以下三种情况：

1）其中两个检索要素相关度比较高，可以进行合并或舍弃其中之一。

例如需要对主题“车辆自动驾驶的热能计算”进行防侵权检索时，检索人员通常先将这个主题简单分为“车辆”、“自动驾驶”和“热能计算”这三个检索要素，可以看出其中的“车辆”属于交通工具，“自动驾驶”属于交通控制，这两个检索要素“车辆”和“自动驾驶”属于相关度比较高的要素。

当在检索式中使用“自动驾驶”进行限定时，实质上也限定了“车辆”等交通工具的使用，所以此时就可以只选择使用“自动驾驶”进行限定，而放弃使用“车辆”这个检索要素。

2）其中两个或多个检索要素具有一定逻辑关系，可以按照逻辑关系构建检索式。

例如需要对主题“经过热处理得到耐腐蚀性能的车辆钢板”进行防侵权检索时，检索人员同样先将这个主题分为“热处理”、“耐腐蚀”、“车辆”和“钢板”四个检索要素，由于这四个检索要素具有一定的逻辑关系，在将检索要素进行两两组合时会有以下几种情况：以“车辆”为主体的角度来看，可以有“车辆热处理工艺”、“耐腐蚀的车辆”和“车辆的钢板”的组合方式；以“钢板”为主体的角度来看，可以有“钢板的热处理工艺”和“耐腐蚀的钢板”的组合方式；而组合方式“耐腐蚀的热处理工艺”的技术内容比较宽泛，并未限定到具体的产品，以此限定进行检索势必会包含很大噪音，因此可以再与“车辆”或“钢板”之一组合后形成三者组合的方式来考虑。

3）其中某个检索要素是由短语表达的，可以利用逻辑运算符构建检索式。

例 某个检索要素是由短语或短句表达的，可以采用pre/5（表示两者相距最多5个位置先后出现）或and/5（表示两者相距最多5个位置同时出现）等逻辑运算符连接形成短语或短句的两个词来构建检索要素的表达，“远程监控”可以使用TAC=（远程 pre/5 监控）来表达，“自动驾驶”可以使用TAC = （自动 and/5 驾驶）来表达。

三、按照总分关系构建检索式 在防侵权检索中，首先可以从检索最为相关的专利或技术出发，使用全要素构建检索式进行检索，当对主题“经过热处理得到耐腐蚀性能的车辆钢板”进行检索时，例如可以构建如下检索式进行检索：TAC=（车辆）and TAC =（热处理）and TAC=（钢板）and DSC=（耐腐蚀），这样一方面可以得到与检索主题最为相关的专利，另一方面还可以获得检索要素的多种表达方式，来拓展已有的关键词和IPC分类号。

之后，再按照委托方关注的技术分支，使用部分要素构建检索式进行检索，例如采用前面一和二中所介绍的方式构建检索式，由此形成的一系列检索式组我们称之为总分结构式的检索式组，它们基本可以满足防侵权检索的要求。

此外，我们还可以根据检索结果的相关程度及得到专利数量的多少，适时做出相应调整。

例如，若检索结果相关程度不高，则应适当调整检索要素的表达；若得到的相关专利数量较少，则应调整到在说明书中进行检索或者拓展关键词的并列限定；若得到的专利总量较多，则应分析哪些关键词会带来噪音而进行剔除或替换，或者进行进一步的限定以消除噪音。

如何理解专利无效中的“技术问题”

在专利无效宣告程序中，常用到的无效理由比较有限，主要集中在《专利法》第二十六条第三款、第四款，《专利法实施细则》第二十条第二款和《专利法》第二十二条第二款、第三款等。

具体的理由主要有说明书公开不充分、权利要求不清楚、权利要求得不到说明书支持、独立权利要求缺少必要技术特征、权利要求不具备新颖性、创造性等。

然而在这些无效理由的绝大部分中都会出现“技术问题”的身影，“技术问题”可谓是贯穿专利授权确权程序甚至侵权判定过程的灵魂式的因素，在专利无效中更是争议焦点所青睐的热门问题。

以下简要介绍“技术问题”在各个主要无效理由中的相关规定和作用，以供广大无效程序参与者能较娴熟地在专利无效程序充分运用“技术问题”的巨大威力。

一、“技术问题”在各个主要无效理由中的相关规定和作用 1、专利说明书公开不充分中的技术问题 《专利法》第二十六条第三款规定：说明书应当对发明或者实用新型作出清楚、完整的说明，以所属技术领域的技术人员能够实现为准。

《专利审查指南》对此的相关规定为：所属技术领域的技术人员能够实现，是指所属技术领域的技术人员按照说明书记载的内容，就能够实现该发明或者实用新型的技术方案，解决其技术问题，并且产生预期的技术效果。

2、权利要求得不到说明书支持中的技术问题 《专利法》第二十六条第四款规定：权利要求书应当以说明书为依据，清楚、简要地限定要求专利保护的范围。

《专利审查指南》对此的相关规定：如果权利要求的概括使所属技术领域的技术人员有理由怀疑该上位概括或并列概括所包含的一种或多种下位概念或选择方式不能解决发明或者实用新型所要解决的技术问题，并达到相同的技术效果，则应当认为该权利要求没有得到说明书的支持。

对于这些情况，审查员应当根据专利法第二十六条第四款的规定，以权利要求得不到说明书的支持为理由，要求申请人修改权利要求。

3、独立权利要求缺少必要技术特征中的技术问题 《专利法实施细则》第二十条第二款规定：独立权利要求应当从整体上反映发明或者实用新型的技术方案，记载解决技术问题的必要技术特征”。

《专利审查指南》对此的相关规定为“必要技术特征是指，发明或者实用新型为解决其技术问题所不可缺少的技术特征，其总和足以构成发明或者实用新型的技术方案，使之区别于背景技术中所述的其他技术方案。

4、创造性评述三步法中的技术问题 《专利法》第二十二条第三款规定：创造性，是指与现有技术相比，该发明具有突出的实质性特点和显著的进步，该实用新型具有实质性特点和进步。

《专利审查指南》对三步法第二步的相关规定为：

(2)确定发明的区别特征和发明实际解决的技术问题：在审查中应当客观分析并确定发明实际解决的技术问题。

为此，首先应当分析要求保护的发明与最接近的现有技术相比有哪些区别特征，然后根据该区别特征在要求保护的发明中所能达到的技术效果确定发明实际解决的技术问题。

发明实际解决的技术问题，是指为获得更好的技术效果而需对最接近的现有技术进行改进的技术任务。

审查过程中，由于审查员所认定的最接近的现有技术可能不同于申请人在说明书中所描述的现有技术，因此，基于最接近的现有技术重新确定的该发明实际解决的技术问题，可能不同于说明书中所描述的技术问题；在这种情况下，应当根据审查员所认定的最接近的现有技术重新确定发明实际解决的技术问题。

重新确定的技术问题可能要依据每项发明的具体情况而定。

作为一个原则，发明的任何技术效果都可以作为重新确定技术问题的基础，只要本领域的技术人员从该申请说明书中所记载的内容能够得知该技术效果即可。

对于功能上彼此相互支持、存在相互作用关系的技术特征，应整体上考虑所述技术特征和它们之间的关系在要求保护的发明中所达到的技术效果。

二、各项无效理由中“技术问题”之间的异同 由上各项规定可知，尽管都称为“技术问题”，但其来源或作用不尽相同。

说明书公开不充分、权利要求不清楚、权利要求得不到说明书支持、独立权利要求缺少必要技术特征中的“技术问题”（下称“前者”）与创造性中的“技术问题”（下称“后者”）有着较大的区别。

前者中的“技术问题”一般是本专利说明书描述或声称的技术问题，通常记载在“背景技术”部分的末尾处和“发明内容”或“实用新型内容”部分的起始段落，而后者中的“技术问题”是基于创造性评价中最接近的现有技术重新确定的本专利实际解决的技术问题，该技术问题有可能是本专利说明书描述或声称的技术问题，而更多时候是其他不同的技术问题。

前者在相关规定 般称为“发明或者实用新型的技术问题”或“发明或者实用新型所要解决的技术问题”，后者一般称为“发明实际解决的技术问题”。

之所以会出现这样的情况，是因为前者一般评判的是本专利自身内部的问题，不涉及最接近的现有技术的变更和技术启示的判断，所以仅依据本专利声称的技术问题即可实现评价目的。

而后者在创造性评价中所采用的最接近的现有技术往往不同于本专利背景技术中的现有技术，并且需要对区别技术特征能否应用到该最接近的现有技术进行技术启示判断，所以必须要根据其区别技术特征所能达到的技术效果重新确定技术问题，即本专利实际解决的技术问题。

重新确定本专利实际解决的技术问题属于创造性评价三步法中的第二步，起到承上启下的作用，是确定非显而易见性的起点之一，在创造性评价中有着非常关键的作用。


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