职务发明纠纷如何判断与本职工作有关？HKMG工艺中国28nm制程升级路径

今天，乐知网律师 给大家分享： 职务发明创造纠纷，如何判断与本职工作有关？ ，聚焦HKMG工艺，探究中国28nm制程技术升级路径 。

职务发明创造纠纷，如何判断与本职工作有关？

关于职务发明创造，根据我国现行专利法及实施细则的规定，专利申请权及专利权应归属该单位，职务发明创造主要包括以下几种： (一)在本职工作中作出的发明创造；(二)履行本单位交付的本职工作之外的任务所作出的发明创造；(三)退休、调离原单位后或者劳动、人事关系终止后1年内作出的，与其在原单位承担的本职工作或者原单位分配的任务有关的发明创造。

虽然专利法及实施细则有上述规定，但实践中对于上述规定中的具体认定要件的解释仍然存在争议，尤其是上述第三项所涉及的纠纷通常是由技术人员的离职所产生的，如何认定发明创造与离职员工在原单位本职工作或者分配任务“有关”？具体判断标准及尺度如何适用？下文结合最高人民法院知识产权庭于2023年3月发布的一个案例进行介绍和分析，在该案例中最高院对“有关”的认定需要考虑的因素进行了详细论述。

在上诉人浙江C公司与被上诉人S公司、陈某、隆某等专利权属纠纷案[1]中，C公司主张，诉争专利发明创造系陈某、隆某从C公司离职后1年内作出的与其二人在C公司承担的本职工作或分配的任务有关的发明创造，故诉争专利权应当归属于C公司。

最高院认为，判断发明创造与离职员工在原单位承担的本职工作或者被分配的任务是否“有关”，既要注意维护原单位对确属职务发明创造的科学技术成果享有的合法权利，鼓励和支持创新驱动发展，也要注意避免将细则规定的“有关的发明创造”作过于宽泛的解释，导致在没有法律明确规定或者竞业限制协议约定的情况下，不适当地限制研发人员的正常流动，或者限制研发人员在新的单位合法参与或开展新的技术研发活动。

具体而言，最高院认为进行上述判断时应综合考虑以下因素：

一、诉争专利的具体情况，包括技术领域、所解决的技术问题、发明目的和技术效果、权利要求限定的保护范围、相对于现有技术的”实质性特点“等。

分析诉争专利发明创造的实质性特点或者改进思路是否已经体现于原单位技术方案中，或者说诉争专利发明创造相对于原单位技术方案在技术思路上是否体现出延续性和传承性。

本案中，C公司空气滤清器的技术方案无论从技术手段及技术效果来看均未体现诉争专利区别于现有技术的发明点，因此诉争专利发明创造相对于C公司的技术方案在技术思路上并未体现出延续性和传承性。

二、离职员工在原单位承担的本职工作或原单位分配的任务的具体内容，包括工作职责、权限，能够接触、控制、获取的与诉争专利有关的技术信息等，以及诉争专利与离职员工承担的本职工作或原单位分配任务的关系。

本案中，陈某、隆某的工作岗位均不涉及空气滤清器的具体研发，也未被分配改进空气滤清器的具体工作任务。

虽然二人曾接触过“空气滤清器总成”相关图纸，但这些图纸并未进一步披露具体的技术信息细节。

因此，最高院认为C公司关于诉争专利系其职务发明创造、诉争专利应归属其所有的诉请不能成立。

同时本案中最高院还指出，空气滤清器为汽车众多零配件之一，且为该领域常见的零配件。

应适度把握”相关性“认定的尺度，如果按照过于宽泛思路对涉及职务发明创造的权利归属进行认定，势必相当于认为离职员工只要在离开原单位1年内作出的涉及任一汽车零配件的发明创造都应当然地认定为原单位的职务发明创造，由此获得的专利权都当然地归属原单位，这种思路无异于实质性剥夺了离职员工独立发挥职业技能进行技术创新的机会，不适当地限缩了员工基于个人职业规划重新作出择业选择的正常流动空间，进而导致在原单位、离职员工以及离职员工新任职单位三者之间出现明显的利益失衡，显然并不足取。

在以往的司法实践中，关于“有关”的判断标准和尺度并不统一。

通过该案，最高院细化了判断标准，明确了判断的尺度，即不能按照技术领域相关这种过于宽泛思路对涉及职务发明创造的权利归属进行认定，而应综合考虑发明人在原单位的工作内容及在原单位接触相关技术方案并将其带到新单位申请专利的可能性，同时应该考虑原单位、离职员工以及离职员工新任职单位三者之间的利益平衡。

聚焦HKMG工艺，探究中国28nm制程技术升级路径

自2022年中芯国际（SMIC）成功量产28nm产品以来，我国集成电路的产业化技术已进入28nm制程的高端主流工艺节点。

作为28nm制程的主要技术方向之一，采用“金属栅极（Metal Gate）+高介电常数绝缘层(High-k)”的栅结构（以下简称“HKMG”），能够有效解决栅介质薄弱导致的漏电或多晶硅栅耗尽效应等一系列问题，并可提供较佳的效能表现。

因此，HKMG工艺多被运用于运算速度取向的高阶电子产品，如CPU、FPGA、存储器等。

鉴于我国的集成电路制造企业28nm的研发和量产实力仍与全球先进水平有一定差距，如何发展HKMG工艺技术成为国内集成电路产业关注的重点。

通过以HKMG工艺技术的相关中国专利为基础，对HKMG工艺的专利布局进行分析发现该相关技术在中国的发展目前主要涉及以下特点：HKMG后栅工艺（Gate last）是目前HKMG工艺的主流工艺路线；金属栅结构的制造技术是HKMG后栅工艺的关键技术；金属栅极的化学机械研磨（CMP）技术是HKMG工艺技术升级的突破口。

一、HKMG后栅工艺技术是目前HKMG工艺的主流工艺路线 HKMG工艺在半导体业界分为两大阵营：以IBM为代表的先栅极（Gate first）工艺技术，其特点是对硅片进行漏/源区离子注入操作以及随后的高温退火步骤完成之前便生成金属栅极；以Intel为代表的后栅极工艺技术，其特点是对硅片进行漏/源区离子注入操作以及随后的高温退火步骤完成之后再形成金属栅极。

其中后栅极工艺因生产的芯片功耗更低、漏电更少，尤其高性能表现突出且稳定而被各大代工晶圆厂较多的使用[1]。

“28nm集成电路HKMG工艺技术中国专利申请技术布局”（数据基于围绕28nm制程HKMG工艺技术的核心主题进行检索，并人工筛选所得，共553个中国专利族）。

其中，通用工艺是从专利保护角度划分的，并非实际的HKMG工艺路线，通用工艺中包含的技术从理论上说前栅工艺和后栅工艺都可以应用，但是从专利说明书的内容来看，实施例中明确指出可应用于后栅工艺的专利数量较多。

因此结合上图可知，后栅工艺相关专利申请数量明显多于前栅工艺相关专利申请量，是本领域的主要工艺技术。

二、金属栅极结构制造技术是HKMG后栅工艺的重点分支技术 后栅工艺的整个工艺步骤主要包括栅极氧化层制造、金属栅极结构制造、伪栅结构建立、伪栅结构去除、衬底处理、源漏构造等。

从 相关专利申请的布局出发，结合技术的实际应用情况，金属栅结构制造（金属栅极和栅极氧化层）作为HKMG工艺区别于多晶硅栅工艺的核心特征，无疑是最核心的技术；其次是伪栅结构的制造和伪栅结构的去除，这几项技术是完成高K栅结构制造和实现后栅极工艺中替代栅极工艺流程的关键，是各大公司和研究机构必然也必须关注的重点技术。

三、金属栅极的化学机械研磨技术是HKMG工艺技术升级的突破口 金属栅极的化学机械研磨（Chemical Mechanical Polishing，CMP）技术，在后栅工艺产业应用中主要指Al栅极的CMP技术。

从目前的发展来看，各公司的28nm制程HKMG工艺2011年陆续实现量产后，主体工艺流程和技术路线已经定型，改进的空间有限。

而Al栅极的CMP是由于HKMG工艺引进金属栅极材料而新增的工艺步骤，一方面发展时间较短，技术尚未完全成熟，一方面相对独立，不会对主体工艺流程和技术路线产生影响。

因此既存在改进的空间，又有改进的需求，是未来28nm制程HKMG工艺提升工艺水平的一个重要突破口。

Al栅极的CMP目前一般有两种技术路线，一是PMOS/NMOS的金属栅极CMP分开进行，代表企业是台积电和中芯国际；二是PMOS/NMOS的金属栅极CMP一起进行，代表企业是联华电子。

目前关于Al栅极CMP的专利布局还比较少，主要是围绕工艺方法优化和防止腐蚀两个技术问题。

相对于HKMG的其他分支技术来说，Al栅极的CMP在技术研发和专利布局两个方面都存在较多的空白点，是未来本领域专利布局和技术升级的重要突破口。

自主知识产权与国产大飞机

C919国产大飞机在浦东国际机场试飞成功， 其中，出现频率最多的一个词是“自主知识产权”。

随着新闻对C919具有完全自主知识产权的宣传，各界也对“C919是否可以称得上完全自主知识产权”提出了质疑， 援引C919的总设师吴光辉的解释是：“就飞机整体设计而言拥有完全自主知识产权”。

那么究竟什么是“自主知识产权”？自主知识产权亦称“自有知识产权”。

一般指与非自主知识产权相对应的，在一国疆域范围内由本国公民、企业法人或非法人机构作为知识产权权利主体，对其自主研制、开发、生产的“知识产品”（如计算机软硬件、网络信息产品等），及获得许可购买他国或他人专利、专有技术、商标、软件等所享有的一种专有权利。

也可以简单地理解为只要是自己研究出来，没有借鉴其他人的经验，就可以叫拥有自主知识产权，可以包括申请专利的方案和不公开的技术秘密等。

具体地，就国产大飞机而言，C919的机头、机身、机尾、机翼等外面的“壳子”来自中国的成飞、洪都、沈飞、西飞等企业，而发动机、发电和配电系统、轮胎和刹车、飞控等部分都来自外国供应商。

C919飞机体长38.9米，宽35.8米，如此庞大的飞机包含的零部件要以万为单位计算，虽然C919的很多部件来自外国供应商，但是，C919机体的外形和内部布局，从设计、计算、试验、组装等均为中国自己设计完成的，想将C919这个庞然大物组装起来，各个部件能够配合完成正常工作，成为一架具有国际先进水平的新一代民航客机，绝对不是一件容易的事情，这其中需要很多的调试和改进，并且C919作为一个非常复杂、先进的飞机，利用全球资源实现最好的效果，也是个最佳选择。

也就是说，我们可以这么理解：C919飞机的气动设计、结构设计、系统设计需求均由中国商飞公司提出，然后根据需求在全球完成采购，选择符合要求的零部件进行组装。

另外，总体集成本身正是大飞机制造的核心技术之一，就连波音飞机也是全球采购零部件，在波音飞机四五百万个零部件中，包括导航、发动机等超过50%的配套也是在全球采购的。

从这些方面来看，针对飞机整体设计，C919可以认为是具有自主知识产权的，原因包括三个方面：

第一、根据市场需求，自主提出设计方案。

第二、采购符合设计方案的零部件。

第三、将大量零部件系统集成。

C919总设计师吴光辉说：C919设计研制中有多项重大技术突破，比如超临界机翼的设计。

飞机设计，气动先行，机头、后体的设计也关系到飞机阻力的减小，但机翼的设计决定了飞机的性能，是最为关键的。

我们第一次自主设计超临界机翼，就达到了世界先进水平，得到了国际同行的认可。

此外，新材料的应用是C919的一大亮点。

C919是第一次大范围地采用铝锂合金的机型，我们为此经过了十年的探索，铝锂合金的供应商是按照我们的要求改善了材料的特性，使之能够更好地适用于C919飞机。

据介绍，C919从机体结构件到机载系统设备，从机头试验到机尾复合材料应用，大量采用了自主知识产权的新技术、新材料、新部件，其中包含有反推装置技术、主动控制技术等102项关键技术突破。

在新材料使用上，C919飞机通过自主研发，首次成功应用专利“3D打印钛合金零件”，并在机身蒙皮和长桁结构上使用了第三代铝锂合金专利新材料。

相较于传统铝合金，铝锂合金的强度和刚度更高、损伤容限性能、抗疲劳、抗辐射的性能更强，可以大大提高飞机的寿命。

检索 国内已公开的专利文件，截止2022年7月2日，以“中国商用飞机有限责任公司为申请人”的已公开专利共有897件，其中，有权的专利为593件，发明和发明授权有373件，实用新型172件，外观设计为48件，专利的数量还是非常庞大的，再加上也不排除有一些尚未公开，或者一些核心技术作为技术秘密没有申请专利或者申请了国防专利等当前我们无法检索到。

由于发明专利在审理过程中审查员会检索国内外的对比文件，只有在相对于国内外的所有公开文件都具有新颖性和创造性的前提下才会授权，这在一定程度上能够体现出中国商用飞机有限责任公司在整个飞机中的多个部件确实是进行了重新设计或改进的，相对于国内外的现有技术方案具有的突出的实质性特点和显著的进步，这样看来，中国商用飞机有限责任公司的C919大飞机声称拥有自主知识产权并不存在虚假宣传，而是实打实的真有多项专利权！ 拥有核心技术，并且申请专利获得授权，就可以以公开换取专利法的保护，这样才能够掌握主动权，不受制于他人，甚至制约别人不能制造和销售侵权产品，才叫真正拥有了自主知识产权。
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